Feiteng-Magnetron-Cr-Spritzenziel OD127*ID458*10

Chrom-Spritzenziel des Chrom-Platten-Ziel-Pure>3N5 127*458*10

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Chrom (Chrom), chemisches Symbol Cr, Ordnungszahl 24, im Periodensystem gehört Gruppeⅵ B. Der Elementname kommt vom griechischen Wort für „Farbe,“ weil werden Chrommittel gefärbt. Graues Stahlmetall ist das härteste Metall in der Natur. Chrom, bei 0,01% in der Erdkruste, ordnet 17. Freies natürliches Chrom ist extrem selten und tritt hauptsächlich im Chromführungserz auf. In der Hüttenindustrie wird Chromeisenerz hauptsächlich benutzt, um Ferrochromlegierung und Chrommetall zu produzieren. Chrom wird im Edelstahl, in den Autoteilen, in den Werkzeugen, im Band und im Videoband benutzt. Chrome überzog auf Metall kann Rost-beständig, alias Cordometer, starkes und schönes sein.
Chrom ist ein wesentliches Spurenelement im menschlichen Körper. Dreiwertiges Chrom ist ein gesundes Element, während sechswertiges Chrom giftig ist. Die Absorption und die Auslastung des anorganischen Chroms durch menschlichen Körper ist, weniger als 1% sehr niedrig. Die Auslastung des menschlichen Körpers des organischen Chroms kann 10-25% erreichen. Der Inhalt des Chroms in der Naturkost ist niedrig und existiert in Form von dreiwertigem.

Das beschichtende Ziel ist eine Spritzenquelle, die verschiedene Funktionsfilme auf dem Substrat durch das spritzende Magnetron bildet, Multibogenionenüberzug oder andere Arten Anstrichsysteme unter passenden technologischen Bedingungen. Um es einfach zu setzen, ist das Zielmaterial das Zielmaterial der Hochgeschwindigkeitsbombardierung der geladenen Teilchen. Wenn sie in energiereichen Laser-Waffen verwendet werden, wirken verschiedene Energiedichten, verschiedene Ausgangssignale und verschiedene Wellenlängen von Laser auf verschiedene Ziele, unterschiedliche Tötung ein und Zerstörungseffekte werden produziert.

1) Magnetronspritzenprinzip:
Ein orthogonales Magnetfeld und ein elektrisches Feld werden zwischen dem gespritzten Zielpfosten (Kathode) und Anode hinzugefügt, und dem erforderlichen Edelgas (normalerweise AR-Gas) wird eine Hochvakuumkammer ausgefüllt. Die Dauermagnetformen ein Magnetfeld von 250 | 350 Gauß auf der Oberfläche des Zielmaterials, das ein orthogonales elektromagnetisches Feld mit dem elektrischen Hochspannungsfeld bildet. Unter der Aktion des elektrischen Feldes, hat AR-Gasionisierung in positive Ionen und Elektronen, Ziel und bestimmten Unterdruck, von der Aktion des Ziels vom extrem betroffenen durch Magnetfeld und von der Zunahme der Arbeitsgasionisierungswahrscheinlichkeit, bilden ein Plasma mit hoher Dichte nahe der Kathode, AR-Ion unter der Aktion von lorentz Kraft, Geschwindigkeit oben, um zur Zieloberfläche zu fliegen und bombardiert Zieloberfläche an einer hohen Geschwindigkeit, die gespritzten Atome auf dem Ziel folgen dem Impulsumwandlungsprinzip und -fliege weg von dem Ziel mit hoher kinetischer Energie zum Substrat für Filmabsetzung. Das spritzende Magnetron wird im Allgemeinen in zwei Arten unterteilt: Spritzendes und Rfspritzen DC. Das Prinzip der DC-Spritzenausrüstung ist einfach, und die Rate ist schnell, wenn sie Metall spritzt. Rf, der spritzt, ist, zusätzlich zum Spritzen von leitfähigen Materialien weitverbreiteter, kann nicht leitfähige Materialien, aber auch reagierendes spritzen, zum von Oxiden vorzubereiten, Stickstoff und Karbid und andere Verbundmaterialien auch spritzen. Wenn die Frequenz der Hochfrequenz erhöht wird, wird sie Mikrowellenplasmaspritzen. Jetzt ist die Art das Mikrowellenplasma der Elektronzyklotronresonanz (ECR), das spritzt, allgemein verwendet.
2) Magnetronspritzenzielart:
Metallspritzenzielmaterial, Beschichtungslegierungsspritzenbeschichtungsmaterial, keramisches Spritzenbeschichtungsmaterial, Spritzenzielmaterialien des Boride keramische, Spritzenzielmaterial des Karbids keramisches, Spritzenzielmaterial des Fluorids keramisches, Spritzenzielmaterialien des Nitrids keramische, keramisches Ziel des Oxids, Spritzenzielmaterial des Selenids keramisches, Spritzenzielmaterialien des Silicids keramische, Spritzenzielmaterial des Sulfids keramisches, Spritzenzielmaterial des Tellurids keramisches, andere keramische Ziele, Chrom-lackiertes keramisches Ziel des Silikonmonoxydes (Cr-SiO), Indium, das Ziel (InP) phosphatiert, Führungsarsenmetallziel (PbAs), Indiumarsenmetallziel (InAs).

Eigenschaften

1. Niedrige Dichte und hochfest
2. besonders angefertigt entsprechend den Zeichnungen gefordert von den Kunden
3. starke Korrosionsbeständigkeit
4. starke Hitzebeständigkeit
5. Widerstand der niedrigen Temperatur
6. Hitzebeständigkeit