Titanspritzenziel 133OD*125ID*840L der Vakuumbeschichtungs-Gr1

Titan- Rohr-Ziel Titan-Gr1 ASTM B861-06 ein Vakuumbeschichtungs-Ziel Spritzens133od*125id*840l

Das beschichtende Ziel ist eine Spritzenquelle, die verschiedene Funktionsfilme auf dem Substrat durch das spritzende Magnetron bildet, Multibogenionenüberzug oder andere Arten Anstrichsysteme unter passenden technologischen Bedingungen. Um es einfach zu setzen, ist das Zielmaterial das Zielmaterial der Hochgeschwindigkeitsbombardierung der geladenen Teilchen. Wenn sie in energiereichen Laser-Waffen verwendet werden, wirken verschiedene Energiedichten, verschiedene Ausgangssignale und verschiedene Wellenlängen von Laser auf verschiedene Ziele, unterschiedliche Tötung ein und Zerstörungseffekte werden produziert. Zum Beispiel ist Verdampfungsmagnetronspritzenbeschichtung Heizverdampfungsbeschichtung, Aluminiumfilm, etc. ändern verschiedene Zielmaterialien (wie Aluminium, Kupfer, Edelstahl, Titan, Nickelziel, etc.), kann verschiedene Filmsysteme erhalten (wie super harter, haltbarer, rostfester Legierungsfilm, etc.)
Ein orthogonales Magnetfeld und ein elektrisches Feld werden zwischen dem gespritzten Zielpfosten (Kathode) und Anode hinzugefügt, und dem erforderlichen Edelgas (normalerweise AR-Gas) wird eine Hochvakuumkammer ausgefüllt. Die Dauermagnetformen ein Magnetfeld von 250 | 350 Gauß auf der Oberfläche des Zielmaterials, das ein orthogonales elektromagnetisches Feld mit dem elektrischen Hochspannungsfeld bildet. Unter der Aktion des elektrischen Feldes, hat AR-Gasionisierung in positive Ionen und Elektronen, Ziel und bestimmten Unterdruck, von der Aktion des Ziels vom extrem betroffenen durch Magnetfeld und von der Zunahme der Arbeitsgasionisierungswahrscheinlichkeit, bilden ein Plasma mit hoher Dichte nahe der Kathode, AR-Ion unter der Aktion von lorentz Kraft, Geschwindigkeit oben, um zur Zieloberfläche zu fliegen und bombardiert Zieloberfläche an einer hohen Geschwindigkeit, die gespritzten Atome auf dem Ziel folgen dem Impulsumwandlungsprinzip und -fliege weg von dem Ziel mit hoher kinetischer Energie zum Substrat für Filmabsetzung. Das spritzende Magnetron wird im Allgemeinen in zwei Arten unterteilt: Spritzendes und Rfspritzen DC. Das Prinzip der DC-Spritzenausrüstung ist einfach, und die Rate ist schnell, wenn sie Metall spritzt. Rf, der spritzt, ist, zusätzlich zum Spritzen von leitfähigen Materialien weitverbreiteter, kann nicht leitfähige Materialien, aber auch reagierendes spritzen, zum von Oxiden vorzubereiten, Stickstoff und Karbid und andere Verbundmaterialien auch spritzen. Wenn die Frequenz der Hochfrequenz erhöht wird, wird sie Mikrowellenplasmaspritzen. Jetzt ist die Art das Mikrowellenplasma der Elektronzyklotronresonanz (ECR), das spritzt, allgemein verwendet.

Eigenschaften

1. Niedrige Dichte und hochfest
2. besonders angefertigt entsprechend den Zeichnungen gefordert von den Kunden
3. starke Korrosionsbeständigkeit
4. starke Hitzebeständigkeit
5. Widerstand der niedrigen Temperatur
6. Hitzebeständigkeit